Японская корпорация Dai Nippon Printing сделала значительный шаг вперед в области нанолитографии, предложив более экономически выгодную альтернативу существующей фотолитографии, которая в настоящее время доминирует на рынке. По данным Nikkei Asia, нидерландская компания ASML контролирует около 90% рынка оборудования для производства чипов, предоставляя машины для фотолитографии, основанной на использовании мощных УФ-лазеров, что требует значительных энергетических затрат и обходится в сотни миллионов долларов.
Новая разработка Dai Nippon Printing бросает вызов устоявшимся методам, возвращая к жизни технологию нанолитографии, в которой схемы не рисуются лазером, а отпечатываются на кремниевых подложках. Ранее считалось, что этот метод не подходит для чипов с топологическим узлом менее 2 нанометров, однако инженеры компании преодолели это ограничение с помощью нового материала. Это позволяет точно формировать следы для последующего травления. Важным элементом также является оборудование Canon, способное создавать структуры размером до 1,4 нм. В итоге, новая нанолитография оказывается на 90% дешевле традиционной фотолитографии.
Крупные производители, такие как Samsung Electronics, TSMC, Micron Technology и Kioxia, уже проявили интерес к этой разработке. Для массового внедрения требуется подтвердить стабильность и надежность нового процесса. Kioxia уже запустила тестовое производство, и если испытания окажутся успешными, другие компании могут начать широкое использование технологии в 2027–2028 годах.